2024年10月15-16日，第八届国际先进光刻技术研讨会（International Workshop on Advanced Patterning Solutions, IWAPS）在中国浙江嘉兴成功举办。刘世元教授携博士生牟春晓、何玭炫及硕士生钟志龙参加了此次盛会。刘世元教授担任大会国际咨询委员会委员（International Advisory Committee Member）。
本次会议由中国集成电路创新联盟、中国光学学会主办，吸引了来自中国、美国、德国、日本等世界各地众多企业、科研机构、高校的六百余名技术专家和学者。NOM课题组的参会成员积极融入这一学术与技术交流的盛会，共同探讨光刻技术的最新进展与未来趋势。
在研讨会上，牟春晓详细介绍了如何利用Wiener-Padé模型对光刻胶进行建模。何玭炫分享了基于伴随方法的线性化极紫外（EUV）光刻掩模优化的研究成果。
会议期间，刘世元教授与国内外同行进行了深入的学术交流，共同探讨光刻领域面临的挑战与解决方案。通过参加此次国际先进光刻技术研讨会，NOM课题组的团队成员不仅拓宽了学术视野，还结识了众多国内外同行，为今后的学术研究与技术合作奠定了坚实基础。未来，NOM课题组将继续致力于光刻技术的研究与创新，为中国集成电路产业的发展贡献更多智慧与力量。