2019年6月23日-27日，NOM研究组的陈修国副教授和博士生王才赴德国慕尼黑参加了国际光学工程学会主办的第24届光学测量国际会议。会议主题涵盖：工业检测中的光学系统、光学测量中的建模、生物材料的成像及表征、机器视觉和自动视觉等光学测量领域的诸多前沿领域。该会议是继2017年于德国慕尼黑举办的第23届国际会议的又一次国际盛会。本次会议的主题与NOM组目前从事的光学微纳测量理论与仪器方法研究方向具有高度的相关性。光学测量方法以其快速、准确以及非破坏性等优势在半导体制造等领域备受关注。本次会议上也有诸多专家学者对光学测量的新方法进行广泛而深入的讨论和探索。
会上，陈修国副教授受邀做了题为“Tomographic Mueller-matrix scatterometry for nanostructure metrology: principle and opportunities”的邀请报告，介绍了课题组自制的层析穆勒矩阵散射仪及其在纳米结构上的测量应用。此外，博士生王才做了“Vectorial modeling for the image formation of a high-numerical-aperture Mueller-matrix ellipsometer”的口头报告，介绍了自己在光学仪器的成像理论建模与仿真方面的研究工作。这些研究工作均引起了与会者的广泛关注与兴趣。