2014年3月16至17日，中国国际半导体技术大会(China Semiconductor Technology International Conference, CSTIC 2014)在上海国际会议中心隆重举行。刘世元教授应大会组委会邀请出席该会议并做了题为“Mueller matrix polarimetry: A powerful tool for nanostructure metrology” 的邀请报告。
刘世元教授在报告中首先指出纳米结构测量面临的新挑战，然后从仪器研制、测量理论、应用开发等三个方面系统介绍了NOM研究组近年来的研究工作。在仪器研制方面，以NOM研究组自主开发的宽光谱广义椭偏仪为例，阐明了穆勒矩阵偏振仪的基本原理及仪器开发中的若干关键技术；在测量理论方面，针对穆勒矩阵测量涉及的复杂数据分析问题，概述了计算测量的基本概念、特点、问题及求解方法。在应用开发方面，给出了穆勒矩阵测量技术在典型纳米结构测量中的探索性应用，包括电子束光刻光栅样件、纳米柱阵列样件、具有自然粗糙度形貌的光刻胶样件、以及纳米压印光栅样件等，表明该技术可以实现关键尺寸、线边粗糙度、残胶厚度以及残胶厚度不均匀性等形貌特征的精确、非破坏性测量。
CSTIC大会是中国规模最大、综合性最强的半导体技术年度大会，由国际半导体设备与材料协会(SEMI)和美国电化学会(ECS)主办，致力于促进中国半导体产业的发展。大会共设有12个技术分会，涵盖了半导体技术制造的各个方面，包括设备、设计、光刻、集成、材料、工艺、制造、测试、以及新兴半导体科技等，分会从不同的专业领域，深入探讨全球IC设计与制造以及相关产业发展趋势和研究成果。