2014年2月23日至2月27日，NOM研究组博士生吕稳赴美国加州圣何塞市参加了由国际光学工程学会（SPIE）主办的2014年先进光刻国际会议(Advanced Lithography 2014)。
会议期间，吕稳同学以墙报形式展示了自己最新的研究成果“Effective Simulation for Robust Inverse Lithography Using Convolution-Variation Separation Method”。该论文提出了基于卷积变量分离方法的空间像快速计算方法以及基于该方法的快速、鲁棒逆向掩模合成技术，解决了带工艺参数的空间像快速计算与高效逆向掩模求解等基础理论与关键技术问题。该研究成果引起TSMC、Mentor Graphics、Synopsys、Luminescent等企业以及Fraunhofer Institute等研究院所的广泛关注与兴趣。