2013年11月4日至5日，表面高灵敏度光谱学国际研讨会(Workshop on Surface Sensitive Optical Spectroscopy, SSOS)在天津大学举行。刘世元教授应邀出席该会议并做特邀报告“Mueller matrix polarimetry: A powerful tool for nanostructure metrology”，从仪器、理论、方法、应用等几个方面阐述了穆勒矩阵偏振仪在纳米结构测量方面的巨大潜力。
刘世元教授在报告中首先介绍了穆勒矩阵偏振仪的基本原理，以NOM研究组自主开发的宽光谱广义椭偏仪为例，说明了仪器开发中的关键技术。接下来针对穆勒矩阵测量涉及的复杂数据分析问题，概述了计算测量的基本概念、特点、问题及求解方法。最后结合NOM课题组的最新研究成果，给出了穆勒矩阵测量技术在典型纳米结构测量中的探索性应用，包括电子束光刻光栅样件、纳米柱阵列样件、具有自然粗糙度形貌的光刻胶样件、以及纳米压印光栅样件等，表明该技术可以实现关键尺寸、线边粗糙度、残胶厚度以及残胶厚度不均匀性等形貌特征的精确、非破坏性测量。
SSOS是由中国与欧洲部分学者发起并共同组织的一个小型学术研讨会，旨在以高灵敏度光谱学为切入点，就表面的光学表征技术与科学应用研究，特别是纳米尺度光学表征学和新型材料与功能结构等前沿领域的科学发展进行深入、广泛的学术研讨。本次会议由天津大学和奥地利约翰斯开普勒大学联合发起，天津大学测试计量技术及仪器国家重点实验室承办。会议得到中国国家自然科学基金委、奥地利欧亚太平洋大学联盟组织(Eurasia-Pacific Uninet)、王宽诚教育基金会、微米/纳米科学与技术创新引智基地等官方机构和学术组织的联合资助。来自奥地利、德国、意大利、罗马尼亚、墨西哥以及国内的专家学者参加这次研讨会。
会议新闻链接：http://news.tju.edu.cn/student/201311/t20131111_182812.htm