应数字制造装备与技术国家重点实验室邀请，美国KLA-Tencor公司资深研究员王海明博士于2012年5月22日来访我校，并于5月23日上午做了一场题为“半导体测量与纳米技术：挑战及解决方案” (Semiconductor Metrology and Nanotechnology: Challenges and Solutions) 的学术报告。报告由刘世元教授主持，来自数字制造装备与技术国家重点实验室、武汉光电国家实验室（筹）等单位相关专业的教师、研究生以及留学生聆听了报告。
在报告中，王博士首先用一个生动的实例阐述了半导体制造及纳米技术领域引入测量(metrology)的必要性，简单介绍了光谱椭偏测量、光谱反射测量等测量技术及仪器；接下来，王博士重点讲解了光谱椭偏测量系统的建立过程，主要包括系统软硬件概述、系统模型建立和系统调试与校准；最后王博士带领我们展望了半导体测量领域的技术宏图，包括面临的技术挑战和解决方案，并对比了几种测量技术的灵敏度等特点。到场师生对王博士的报告表现出极大的兴趣并积极向王博士提出自己的疑问，王博士也一一对师生的问题进行了详细解答。
王海明博士是浙江台州人，浙江大学光学仪器系本科毕业、中科院长春光机所/德国西门子研究中心联合培养博士、德国Kaiserslautern大学博士后，现任世界著名半导体设备研发与制造商KLA-Tencor公司资深研究员和项目经理。王博士主要从事半导体计量检测和工程控制设备研发，已发表高水平学术论文40余篇，并有20多项美国和国际专利。
华中科技大学华中大在线新闻链接：http://mse.hust.edu.cn/news.php?id=12974
数字制造装备与技术国家重点实验室新闻链接：http://dmet.hust.edu.cn/news_body.aspx?id=212