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NOM研究组成员赴法国参加E-MRS国际会议

时间:2012-04-24

2012年5月14日至18日,NOM研究组两位博士生陈修国、董正琼在刘世元教授和张传维博士的带领下赴法国Strasbourg参加了由欧洲材料研究学会(European Materials Research Society)主办的2012年春季会议(E-MRS 2012 SPRING MEETING)。每年一度的E-MRS春季会议是材料学领域全球最大规模的国际会议之一,包括20多个分会。全世界材料学的专家学者齐聚一堂,共同探讨最新的材料学与材料工程研究成果,包括能源材料、生物材料、光伏材料、半导体材料、纳米材料等最先进、最前沿的加工制造技术及应用成果。


本届会议中,张传维博士在W分会场(Current Trends in Optical and X-Ray Metrology of Advanced Materials for Nanoscale Devices)上作了题为“Robust reconstruction of grating structures in optical scatterometry”的学术报告,提出并验证了一种基于评价函数凸特性分析和光谱灵敏度分析的鲁棒、精确光栅结构重构方法。博士生董正琼也报告了研究论文“Optimization of measurement configurations for optical scatterometry based on global sensitivity analysis”, 针对光学散射测量提出了一种基于全局灵敏度分析的测量配置优化方法,并通过大量的仿真分析验证了该方法的可行性。两位报告人的最新研究工作都得到了与会人员的认可和好评。


与会期间,刘世元教授还与国际椭偏及光学散射测量专家Aliain C. Diebold教授、Hiroyuki Fujiwara教授、Thomas A. Germer博士等同行开展了深入的交流,并探讨了今后可能的学术合作机会。


本届E-MRS春季大会于2012年5月18日圆满结束,会议上的一系列研究成果与轻松友好的氛围给所有与会者留下了深刻的印象。

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