当前位置: 网站首页   >   新闻列表   >   正文

NOM研究组成员参加NanoTrends 2011国际会议

时间:2011-10-14

NOM研究组陈修国博士生于2011年10月10日至12日赴合肥参加了在此举行的第1届纳米制造趋势论坛(The 1st Forum on Trends in Nano-manufacturing)。陈修国的论文Metrology of periodic nanostructures with coated layers by Mueller matrix polarimetry主要讨论了纳米结构表面涂覆层或氧化层对穆勒矩阵椭偏仪测量精度的影响以及如何对其进行精确测量。


此次论坛由中国科学技术大学主办,并得到了中国科学院、国家自然科学基金委、国家纳米科学中心、合肥微尺度物质科学国家实验室(筹)和国家自然科学基金委员会重大研究计划“纳米制造的基础研究”的大力支持。会议邀请了纳米制造和测量领域的众多知名专家和学者作特邀报告,同时也吸引了来自美国、英国、日本、新加坡、中国香港及国内许多知名高校等的研究者参与此次论坛。


news20111014_1_1.jpg