NOM研究组刘世元教授和博士生刘巍同学于2011年2月27日至3月3日，赴美国加州圣何塞市参加了由国际光学工程学会主办的2011年先进光刻国际会议(SPIE Advanced Lithography 2011，SPIE-AL 2011)。每年一度的先进光刻国际会议是SPIE举办的全球最大规模的国际会议之一。会议不仅有来自MIT、UC Berkerly等高水平大学的专家学者，也有来自Intel、IBM等半导体巨头的科技人员参加。
在3月2日，刘世元教授与刘巍同学以墙报形式在会议现场展示了他们撰写的研究论文Fast algorithm for quadratic aberration model based on triple crosscorrelation operator。该论文主要讨论了考虑波像差影响的光刻空间成像快速建模问题，提出了一种基于三阶互相关的新算法，吸引了包括本届大会主席Donis Flagello博士等在内的同行的广泛关注与兴趣。会议期间，刘世元教授与刘巍同学认真听取了大会各分会场的报告及发言，结识了来自各国的光刻领域同行，开展了深入的交流，相互介绍了各自的科研领域及成果，并深入探讨了今后可能的学术合作机会。