NOM研究组刘世元教授、张传维博士和陈修国博士生于2011年2月20日至23日，赴台湾高雄参加了由台湾成功大学承办的第六届国际电气电子工程学会微纳米工程和分子系统国际会议(The Sixth Annual IEEE International Conference on Nano/Micro Engineered and Molecular Systems, IEEE-NEMS 2011)。
在本届学术会议上，刘世元教授作了关于纳米制造中的计算光刻与计算测量的特邀学术报告(Computational lithography and computational metrology for nanomanufacturing)，主要介绍了NOM研究组近年来在计算光刻与计算测量领域内的若干研究进展以及所取得的研究成果。
张传维博士宣讲了研究论文Fabrication of biomimetic gecko setae by direct photolithography and micromolding processes，介绍了一种微纳层次结构仿壁虎毛的制作新工艺。该论文入选了本届学术会议的最佳论文提名。
陈修国博士生宣讲了研究论文Zernike representation of angle-resolved Mueller matrix of dimensional analysis of nanoscale structures，提出了一种用于纳米结构测量的Mueller矩阵表示新方法。