2016年7月19日上午，应数字制造装备与技术国家重点实验室邀请，阿斯麦-睿初（ASML-Brion）公司总经理曹宇博士等一行人来访我校，为广大师生做了一场题为“计算光刻及其在工艺窗口增大和控制中的应用（Computational Lithography and Applications in Process Windows Enhancement and Control）”的精彩学术报告。报告由刘世元教授主持。
报告中，曹宇博士介绍了计算光刻的一系列挑战和研究成果，以及计算光刻在工艺窗口增大和控制中的应用。曹宇博士首先深入浅出的讲解了计算光刻的历史发展、基本手段、建模方法、和目前面临的一些挑战，紧接着介绍了通过物理模型、数学算法和计算机架构等方式所作的研究成果，最后阐述了计算光刻在工艺窗口增大和控制上的可观应用。在报告现场，同学们进行了多次提问，表现出了极大的兴趣，报告后，就如何进行更加灵活的光学建模等问题和曹宇博士进行了深入的探讨。
曹宇博士1989年本科毕业于中国科学技术大学物理系，1996年获得美国加州理工大学物理系博士学位，1996-2001任职于科磊（KLA-Tencor）公司和奥利达公司（Onetta），2002年作为创始人之一在硅谷建立了Brion公司，2007年该公司被ASML收购。2011年曹宇博士离开ASML创立好耶（Alleyes）数字广告公司，该公司被阿里巴巴收购，2015年曹宇博士回到ASML-Brion并出任总经理。在光刻领域，曹宇博士拥有将近20来年的研究和工作经验，做出了很多开创性的工作和杰出的贡献，申请美国专利40余项，研究工作受到国际同行的认可。