2016年5月5日，科技部在武汉组织召开了首批国家重大科学仪器设备开发专项项目“宽光谱广义椭偏仪设备开发”（项目编号：2011YQ160002）综合验收会议。该项目由武汉光迅科技股份有限公司牵头，华中科技大学为仪器开发技术支持单位，武汉新芯集成电路制造有限公司、武汉珈玮光伏照明有限公司、武汉光电国家实验室（筹）为应用开发单位，武汉颐光科技有限公司为产业化单位。天津大学叶声华院士、华东师范大学曾和平教授、中科院上海光机所周常河研究员、北京光学仪器厂骆东淼教授级高工等11名专家组成了本次会议验收技术专家组，叶声华院士任专家组组长。验收会由科技部国家科技评估中心毛建军副主任主持，湖北省科技厅条件处魏敏杰处长等出席会议。
项目负责人刘世元教授代表项目组对项目执行完成情况进行了详细汇报。截止项目验收时，研制完成宽带消色差补偿器、高精度双旋转补偿器同步控制等核心部件与关键技术，开发出具有自主知识产权的宽光谱广义椭偏仪设备4台；获授权国际发明专利3件，授权国内发明专利29件，软件著作权8件，商标权1件。获日内瓦国际发明奖金奖1项，发表SCI学术论文50篇；形成设计图纸、工程工艺、软件代码等完整技术文档各1套，质量和可靠性保障方案1套；建成中试生产线1条，销售仪器产品2台。
汇报结束后，专家组现场审阅了相关资料，前往产业化单位武汉颐光科技有限公司考察了宽光谱广义椭偏仪设备产品，对产品指标和性能进行了现场测试与考核，并就项目完成情况及产业化进展提出现场质询。经认真讨论，验收专家组认为，该项目实施情况良好，完成了预期目标并达到全部考核指标，一致同意通过验收。
椭偏仪是一种测量偏振光状态改变的重要科学仪器，本项目研制的广义椭偏仪（也称穆勒矩阵椭偏仪）代表了椭偏仪最高水平，可以测得一个4?4阶的穆勒矩阵共16个参数，因而可以获得更为丰富的测量信息。椭偏仪广泛应用于材料光学常数、纳米薄膜厚度及表面特性表征等基础科学研究与纳米制造相关产业，应用范围涵盖集成电路、光伏太阳能、平板显示、LED照明、存储、生物、医药、化学、电化学、光学薄膜等众多领域。