2015年6月21日至6月27日，NOM研究组博士生谷洪刚、李伟奇在陈修国博士后带领下赴德国慕尼黑参加了由国际光学工程学会(Society of Photo-Optical Instrumentation Engineers, SPIE)举办的2015光学测量大会(Optical Metrology 2015 Symposium)。
陈修国博士代表刘世元教授做了名为“Mueller matrix scatterometry: revisited from the viewpoint of computational metrology”的特邀报告，随后陈修国博士、谷洪刚和李伟奇分别以口头报告形式展示了自己的最新研究进展，报告题目分别为“Development of Mueller matrix imaging scatterometry for nanostructure metrology”，“Measurement errors induced by axis tilt of biplates in dual-rotating compensator Mueller matrix ellipsometers”和“Correction of depolarization effect in Mueller matrix ellipsometry with polar decomposition method”。此次会议中，NOM组代表成员充分展示了课题组近来在穆勒矩阵椭偏仪领域最新突破和研究成果，包括从计算测量角度审视穆勒矩阵散射测量、穆勒矩阵成像椭偏仪及其在纳米结构测量中的应用、穆勒矩阵椭偏仪中补偿器误差对穆勒矩阵测量的影响与分析以及在存在退偏效应下利用穆勒矩阵分解更准确提取纳米结构待测参数的方法等。
光学测量大会（OPTICAL METROLOGY）是光学测量领域十分重要的的高水平国际学术会议之一，会议涵盖光学测量、摄像测量和机器视觉等方面内容，旨在解决工业设计与生产、车辆导航、多媒体技术、生物技术、建筑、考古和艺术等领域的测量与检验问题。会议旨在为上述领域科研、工程等相关人员提供一个平台，交流相关领域最新研究成果、研讨学术前沿问题及工程新问题、新方法、促进信息、知识互通共享。此次会议由国际光学工程学会欧洲分会举办。